“不。”李建昆打断他道，“研究光刻机。”
去年和老陈长聊几回后，他认真思考过，想靠一个研究单位，把芯片弄出来，确实有点不切实际。既然如此，芯片这个系统工程中的其他环节，他再想办法，日后慢慢整合。中关村这个实验室，则研究最基础最核心的东西——光刻机。
老陈挠挠头道：“其实研究光刻机的，周边有两家机构呀。”
是啊，可他们最后都会放弃。
李建昆有这个计划后，自然打听过。目前国内研究光刻机整机的仅有的两家单位，全在方圆五公里内。
这是一个很好优势。
第一家是科院微电子所。1965年我国一款光刻机——65型接触式光刻机。正是由他们联合魔都电子仪器厂，一起研发出来的。
不过现在似乎不太重视了，很多年没听说过有成果。
第二家在清华。清华有个精密仪器系。62年在旁边建起一个“精密光学仪器加工厂”，也被称为“9003实验基地”或“9003所”。
国内当下最先进的光刻机技术，全在里头。
1971年，他们研制出了第一台光刻机和分步重复照相机。这台光刻机与65年那款不同，它可以投入规模化生产。即世界光刻机领域划分中的，第一代光刻机。
1980年，他们又研发出了自动对准分步投影光刻机。即第二代。
众所周知，光刻机发展到2020年代时，共有五代。
一代和二代，从性质上讲，均为接触接近式光刻机。
第三代为扫描投影式光刻机。
第四代为进步扫描投影式光刻机，不同之处主要在于，使用了激光光源，使得芯片的制程和生产效率，大幅跃升。
第五代，即EUV光刻机。
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