星城半导体产业园，中微公司总部大楼。
正值凌晨，一场特殊的会议正在二十一楼的会议室召开。会议室的气氛有些紧张，威廉姆斯团队和中微的核心研发人员第一次正式碰面。
李一凡和尹志尧坐在主席台上，看着下面泾渭分明的两个团队。一边以威廉姆斯为首的十一人国际团队，另一边是中微刻蚀机研发团队的骨干成员。
“今天这个会议很重要。”李一凡开门见山，“从今天开始，中微将正式组建光刻机事业部，与现有的刻蚀机事业部一起发展。威廉姆斯博士担任光刻机事业部总经理，直接向董事会报告。”
“但我要强调的是，两个事业部并不是割裂的。”他环视全场，“光刻机和刻蚀机虽然是不同的设备，但在核心技术上是有共通之处的。我希望两个团队能够紧密合作，实现技术共享、优势互补。”
威廉姆斯站起身来，用流利的中文说道：“非常感谢中微给我们这个机会。在加入之前，我们就深入研究中微的技术积累。必须承认，你们在精密机械控制、稀疏技术等领域的创新，给了我们很大的启发。”
他打开笔记本电脑，调出了一份技术方案：“这是我们的初步规划。光刻机的核心在于光学系统、机械系统和控制系统的完美配合。中微在后两个领域已经有很深的积累，这让我们在光学系统的创新上多了信心。”
对面的梁宗杰，中微刻蚀机研发的总工程师皱了皱眉：“威廉姆斯博士，我很认可您的观点。但有一个现实问题：我们的精密控制技术是针对刻蚀工艺开发的，用在光刻机上是否需要重新设计？”
“好问题。”威廉姆斯眼睛一亮，“这正是我们要重点合作的地方。刻蚀机和光刻机在纳米级精密控制上的需求是相通的。比如梯度的稳定性控制、机械臂的精准定位等，这些技术完全可以共享。”
他调出了另一张图表：“我们的设想是这样的：在现有的精密控制平台基础上，开发一套更通用的光刻系统架构。这套架构不仅能满足刻机的需求，还能为光刻机的开发提供支持。”
杨思涵认真看着图表，很快点头：“这个思路。不过实现起来难度不小。光刻机对精度的要求比刻蚀机还要高一个数量级。”
“正因如此，我们才选择了一条全新的技术路线。”威廉姆斯说，“传统光刻机主要依赖波长的种群来精度提升，从深线到极线。但这条路越走越难，成本也越来越高。”
“我们的光学方案是，通过创新的系统设计和静态曝光技术，在保持现有光源的基础上实现更大的优势。这样不仅能降低技术开销，还能大幅降低成本。”
听到这里，杨思涵眼前一亮。“这与中微在刻蚀机领域的创新思路不谋而合。当年他们也通过新型改进技术，注意到了美国传统刻蚀机的技术路线，最终实现了突破。”
“这个创新思路很有价值。”李一凡开口道，“不过我们现在最关心的是时间表。威廉姆斯博士，按照您的规划，从立项到出样机需要多长时间？”
威廉姆斯在大屏幕上调出一份甘特图：“根据我们的评估，整个项目分三个阶段。第一阶段是基础研发，为期一年，主要是光学系统的原理验证和关键部件的商标。”
“第二阶段是工程样机，计划用两年时间完成28nm光刻机的质量。这个阶段最关键的是光学系统和精密控制系统的整合。”
“第三阶段是产品化和工艺提升，目标是在五年内实现14nm光刻机的量产。同时，我们会同步开展更先进工艺的研发。”
杨思涵若有所思：“这个规划很紧凑。不过第一年的基础研发恐怕还不够。光学系统涉及的技术积累太多，从零开始需要大量的实验验证。”
“你说得对。”威廉姆斯点头，“所以我们准备采用成品开发策略。光学系统串联三个子系统同时研发：光源系统、光学推理系统和瞄准系统。每个子系统都由一个专门的团队负责。”
他转向周边的团队成员：“约翰负责光源系统，他在EUV光源领域有十五年经验。马克主攻光学推理系统，负责ASML之前最新一代光刻机的光路设计。詹姆斯方向倾斜系统，是精密控制领域的专家。”
“那控制系统聚合怎么配合？”杨思涵问道。
“这就是我想和你们讨论的。”威廉姆斯详细说道，“中微在精密控制领域的积累非常宝贵。我们希望能够总结你们在刻蚀机上的经验，特别是纳米级定位技术和实时反馈系统。”
志尧一直在认真记录，尹开口道：“人员配置需要详细规划一下。光刻机项目预计需要多少研发人员？”
“年轻人需要200人左右的核心团队。”威廉姆斯说，“其中光学组50人，机械组70人，控制组50人，工艺组30人。但随着项目推进，团队规模会逐步扩大到500人以上。”
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