在光科教技术上，万兴邦取得了突破。
光刻教室光刻工艺中的关键材料之一 ，是必须条件，不可缺少的。
在加工过程中，光刻胶用于定义芯片加工过程中的电路和器件图案，是转移图案的关键媒介。 加工过程中。
光刻胶先涂在硅片表面，通过曝光和显影的过程，使光刻胶中的药剂发生化学反应。 形成可溶解区域和不可溶解区域。
可溶解区域，就可以雕刻。
不可溶解区域，在雕刻的过程中不受影响。
可溶解区域和不可溶解区域交替，就形成了芯片的电路，这才是光刻过程中的关键。 光刻胶的好坏，直接影响芯片质量。
高品质的光刻胶，可溶解区域非常容易溶解，不可溶解区域纹丝不动，两者交界区非常明显。
不互融。 不模糊。
才能加工更小的电路尺寸，实现更高的图案分辨率。
高品质的光刻胶，需要适当的黏和力，以便涂抹在硅片表面上。 黏和力不能太小。
否则加工过程中容易脱落。 也不能太大。
否则加工完成之后，怎么去除就是一大问题了。
光刻机加工的芯片电路板是微米级别、纳米级别的，相对脆弱，光刻胶黏和力泰达会造成破坏。 还要有光学透明性。
光刻机就是用光进行雕刻，要是不透光，或者透光不好，还叫什么光刻机? 此外。
还要有化学稳定性，因为光刻机加工过程中，肯定要使用到一些化学药剂。 没有化学稳定性。
加入其他化学药剂，光刻胶变质，芯片就废了。
再就是一定的机械强度，不能有点风吹草动就碎了。 目前。
全世界，唯一能生产光刻胶的只有龙国。
“唉，想想前世，光刻胶技术，掌握在脚盆国手里。”
“143脚盆国出口的光刻胶，巅峰时期，占据了全世界的百分之四十，在一定程度上甚至影响鹰酱。” 万兴邦叹了一口气。
他穿越重生到六十年代，有前世发展的记忆，绝对不会让脚盆国得意。 这一世。
光刻机全套技术，包括光刻胶技术，都是龙国的。
光刻胶也分为两个版本， 一个版本是出口的， 一个版本是自用的，出口的当然也是阉割板。
性能比较差一些。 价格反而更高。
出口的光刻胶，主要原材料是天然物质，比如橡胶乳胶等等。 天然未加工的食品，比加工食品好。
天然未加工的光刻胶就是另外一码事儿，分辨率低，需要较长曝光时间，限制了光刻机技术发展。 自用的光刻胶，使用的材料是光敏聚合物。
分辨率高。
曝光时间短。
同样的光刻机，使用两种光刻胶制造出来的芯片，不能说一个天上一个地下，但也是两种产物。 质量不可同日而语。
“唉，光敏聚合物制作的光刻胶，其实性能也不太好，缺点也不少，只是目前没有更好的。” 万兴邦对光敏聚合物也不太满意。
光敏聚合物也有缺点.
光敏聚合物对万兴邦而言，就是一种过渡产品，迫不得已的情况下矮子里选大个，先顶上! 等他找到更好的材料，制造出更好的光刻胶，就淘汰光敏聚合物。
光明聚合物的缺点也很多。
缺点一是对能量比较敏感。。
在光刻机工作过程中，必须严格控制光源的能量，也就是光长度，以保证光刻胶的感光度。 对紫外光和深紫外光尤其敏感。
缺点二是对化学溶剂耐受性较弱。
在光刻机加工的过程中，有些生产步骤需要使用化学溶剂，清除未暴露部分残留的光刻胶。 这一步非常关键。
该清除的部分，要是清理不干净，再继续光刻的时候，就容易造成漏刻，就会导致芯片报废。 不该清除的部分，是被清除了，或者膨胀了，就会导致不该雕刻的部分雕刻了，或者变形。
同样会报废芯片。 因此。
使用光敏聚合物制作的光刻胶，对化学溶剂要求也非常高，各种物质的配比必须严格按照要求。 只要有一点不对， 一批芯片就报废了。
缺点三是机械性能差，包括机械强度和耐磨性。
有一些芯片加工的时候，中间的加工环节，有可能会施加一定程度的物理压力，或简单打磨。 这种类型的芯片，就不适合使用聚合物光刻胶。
缺点四是稳定性差。
强光照射、温度骤变、气密性不好，都有可能导致聚合物光刻胶变质，储存环境要求比较高。 有些时候。
聚合物光刻胶轻微变质，从物理性状上根本看不出来，颜色不变，味道不变，会被误认为是好的。 但是。
进了光刻机，实际加工的时候，就会出现问题，容易导致一批芯片报废，甚至影响光刻机。
这才是最糟糕的。
这些缺陷，都是聚合物本身的缺陷，根本无法改变。 只能先用着。
继续研发更好的光刻胶。
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