第一六七九章 第二家新能源汽车生产基地
“林院长，同浸没式光刻机配套的浸没式双工作台系统能否同时量产并交付使用？”
蔡力行明白林本坚是为了安慰张仲谋，台积电和ASML合作研发浸没式光刻机的业务，张董事长交给了林本坚，直接向他汇报，有些细节蔡力行也不清楚。
董事长兼CEO张仲谋负责台积电的战略发展和重要投资，总经理蔡力行负责台积电的日常经营管理，副总经理兼研究院院长林本坚负责台积电的技术，副总经理刘德银负责生产，副总经理魏哲加负责销售。
ASML的主营业务是研制和销售ASML光刻机和ASML双工作台系统，不生产和销售半导体生产线中的其他设备，即使ASML 65nm制程浸没式光刻机量产，配套的刻蚀机、离子注入设备、薄膜沉积设备、热处理设备、晶圆切割设备、CMP设备、半导体检测和量测设备、半导体清洗设备、半导体测试设备等都需要台积电想办法解决，最后完成系统集成，即使台积电已经开工建设，但等65nm制程浸没式光刻机到位后，还需要半年多的时间配套、调试和系统集成，2006年3月能够量产就不错了，可能比联电晚半年左右。
如今全球能够完成65nm制程半导体生产线配套的光刻机厂商只有BSEC。
Intel、AMD和联电为了抢时间，直接从BSEC预定全套半导体生产线，开工建设，BSEC负责安装、系统集成、培训员工和售后服务，虽然多花钱，但省时省力。
“蔡总，浸没式与干式光刻机的双工作台系统虽然在核心架构上存在部分兼容性，但受制于技术特性差异，无法通用，ASML双工作台系统研究实验室只能等明年3月拿到量产的浸没式光刻机后，才能在90nm制程干式双工作台系统基础上，升级改造成65nm制程浸没式双工作台系统，能否在明年8月前量产？谁也不能肯定？这也是我最担心的。”
林本坚虽然没有参加过ASML双工作台系统的研发，但他知道，浸没式同干式双工作台系统有很大的差别。
浸没式双工作台的表面涂层需具备抗腐蚀性，以应对长期接触浸润液体的工况；液体流动产生的微振动要求浸没式双工作台具备更高频的主动减振能力；浸没式双工作台对运动精度要求呈指数级提升；浸没式双工作台需重新校准光学与运动控制系统……
林本坚这次私下问过ASML双工作台系统研究实验室主任琼斯，对方预计，将现有的90nm制程干式双工作台改造为65nm制程浸没式双工作台，需要增加30%左右的硬件成本，软件也需要重新升级，最少需要半年的时间。
ASML光刻机研发中心双工作台系统研究实验室有50多名研发人员，琼斯也不敢肯定6个月就能解决这些难题。
林本坚怀疑，BSEC光刻机研究院去年就研发成功浸没式光刻机。
林本坚还担心，即使ASML升级改造成功65nm制程浸没式双工作台系统，能否达到BSEC 65nm制程双工作台系统同样的性能？
1996年9月，琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发，研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统。
当时，ASML和其他光刻机公司（除了GCA）付给每台相当于售价1%的专利费，购买BSEC双工作台系统专利技术，自己生产双工作台系统，BSEC负责硬件和软件升级。
BSEC每代制程的双工作台系统由GCA或BSEC负责升级，免费交给光刻机厂升级改造，通过晶圆厂常年使用，多方不断纠正硬件和软件中出现的缺陷和BUG，不断完善。
“蔡总，我们要求ASML出厂的浸没式光刻机继续配套BSEC浸没式双工作台系统。”
ASML一直对外宣称在高端光刻机上配套BSEC双工作台系统，在中低端光刻机上配套ASML双工作台系统，虽然早也升级到90nm制程双工作台系统，但硬件和软件的故障率明显高于BSEC，导致大多数晶圆厂购买ASML光刻机时，明确要求配套BSEC双工作台系统，宁可多付钱。
“董事长，虽然ASML也会同意，但担心到时BSEC浸没式双工作台系统没有拿到国际发明专利证书。”
BSEC浸没式双工作台系统和浸没式光刻机同时申请了国际发明专利，公开承诺等拿到国际发明技术专利证书后，向全球同行有偿转让这两项核心专利技术。
BSEC靠有偿转让磁悬浮式双工作台系统这项核心专利技术赚得盆满钵满，还让竞争对手失去开发的动力。
“我们如今希望ASML的浸没式光刻机早日量产，也希望BSEC浸没式双工作台系统早日拿到国际发明专利证书。”
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