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第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世

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蔡司公司为2250i设计了新的物镜,方便更换镜头,发明了浸润罩(immersion hood)技术,将一片很小的水面保持在镜头下方,上下接触而不会溢出。由于光照会影响水的温度,需要保持流水,同时水流控制还要避免旋涡和水泡。

BSEC光刻机研究院研究了杂质的来源,设法将原来的4000个缺陷减少为零。将镜头和晶圆浸水之前,先用表面活性液体浸泡,减少沾染。在晶圆的边缘设置密封环(seal ring),避免水溢出,消除漩涡,将杂质带走,降低缺陷率。另一个方法是通过曝光流程的优化,大幅度降低不可复原的缺陷数量。

浸润式技术在曝光时需要将镜头和晶圆曝光区域浸入水中,量测时却需要晶圆上没有水。双工作台系统不光将量测和曝光两道工序分开,还将干式量测和浸润曝光分开,几乎是为浸润式光刻机量身定做的。

BSEC光刻机自动化研究所先后为2250i和3360i升级了磁悬浮式双工作台系统。

BSEC在研发成功TWINSCAN BNT:2250i后,向中国专利局和世界专利局同时申请了9项技术专利,其中2项核心技术专利。

157nm光波的干式光刻机对环境要求相对简单,不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题,工艺控制相对容易,设备的维护和保养也相对简单一些。

由于157nm光波存在吸收效应,不能用水作为浸润介质,需要价格昂贵的氟化钙镜头,导致同制程的157nm光刻机比浸润式光刻机贵50%左右。

“好的,董事长!”

魏建国笑了。

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